CVD（化学上气相色谱火成岩）都是种(zhong)最常见的素材光(guang)催化(𓆉hua)原理(li)水(shui)平，它能否完成在高(gao)溫下使气体分子(zi)式和表面能反映来沉积物(wu)素材。

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模拟型和数字型的汽体水平的流量调节器主要是通过0-5V、4-20mA信号或RS485 modbus协议，来进行数据通信，目前在PE、CVD抽真空机械中使用，等离子体增强化学的气相沉积法。这种方法有很多优点，比如成膜质量好等。PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
P﷽ECVD：是借助微🌸波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很。